ASML两天前发布了财务报告，年净销售额为140亿欧元，已出货31台EUV光刻机，带来了45亿欧元的收入，单位价格接近11.4亿欧元。尽管性能增长非常引人注目，但是ASML也存在一些隐患。
实际上，EUV光刻机的出货量少于预期的35台，他们还宣布下一代高NA EUV光刻机要到2025年至2026年才能上市。大规模申请意味着它将被推迟。
先前的信息显示，ASML的下一代EUV光刻机最早将于2022年开始提供样品，批量生产将在2024年至2025年之间。ASML的EUV光刻机目前主要是NEX：3400B / C系列，NA数值孔径为0.33，下一代EUV光刻机为NEX：5000系列，这可以将NA增加到0.55，这意味着光刻机的分辨率得到了提高。
70％。 （注：NA越高，光刻机的精度越高。
）当前的EUV光刻机可用于制造从7nm到3nm工艺的芯片，下一代EUV光刻机的目标是3nm，2nm或以下的节点。将来甚至会使用1纳米的NA0.55 EUV光刻机。
实际上，EUV光刻机的出货量少于预期的35台，他们还宣布下一代高NA EUV光刻机要到2025年至2026年才能上市。大规模申请意味着它将被推迟。
先前的信息显示，ASML的下一代EUV光刻机最早将于2022年开始提供样品，批量生产将在2024年至2025年之间。ASML的EUV光刻机目前主要是NEX：3400B / C系列，NA数值孔径为0.33，下一代EUV光刻机为NEX：5000系列，这可以将NA增加到0.55，这意味着光刻机的分辨率得到了提高。
70％。 （注：NA越高，光刻机的精度越高。
）当前的EUV光刻机可用于制造从7nm到3nm工艺的芯片，下一代EUV光刻机的目标是3nm，2nm或以下的节点。将来甚至会使用1纳米的NA0.55 EUV光刻机。